镀层粗糙及毛刺是如何产生的? 造成镀层粗糙、毛刺的原因有如下几个。 (1)游离氰化钠含量太低：铜的析出随着游离氰化钠的减少而更加容易，镀层中铜的含量增加，当溶液中的游离氰化钠含量低到一定限度时，由于铜的沉积速度太快而造成镀层粗糙，严重时会出现毛刺。
因游离氰化钠含量过低引起的镀层粗糙、毛刺的特征是：镀层带暗红(温度越低，电流越小，越带暗红)，严重时镀层表面覆盖一层褐黑色薄膜。
镀件无论电流大小部位，镀层都呈粗糙或毛刺。镀液深镀能力下降，阳极上呈淡青色或黑色，阳极附近溶液呈浅蓝色，阴极区氢气泡少，镀层经受不了抛光，易露底，抛光后砂痕遮盖不住。
(2)铜的含量太高：随着溶液中金属铜离子含量的增加，铜的析出更加容易。当铜的含量超过一定限度时，同游离氢氧化钠太少时一样，镀层结晶组织变粗大，严重时有毛刺出现。
因溶液中金属铜含量太高造成的粗糙毛刺的特征与氰化钠太少时相同，镀液深镀能力下降，但阳极溶解正常。 (3)游离氢氧化钠量太高或太低：当溶液中的游离氢氧化钠含量太高时，锡酸根的离解浓度降低，锡的析出更加困难，镀层中的锡含量下降，相对来讲，使铜的析出更加容易。
当游离氢氧化钠含量太低时，锡酸盐发生水解反应，生成偏锡酸沉淀物，这种沉淀物悬浮于溶液中，造成镀件向上部位的粗糙毛刺。 因溶液中游离氢氧化钠过高引起的镀层粗糙毛刺的特征是镀层呈暗红色(温度越低，电流越小＜/p>
?越呈暗红)，镀件无论电流大小部位，镀层都会粗糙或产生毛刺。镀液的深镀能力好，沉积速度显得特别快，镀层厚，难以抛亮，砂痕遮盖不住。
因游离氢氧化钠过度引起的镀层粗糙、毛刺的特征是粗糙发生在镀件向上的面上，镀液浑浊，合金阳极或锡阳极钝化，附有黑膜覆盖。 (4)电流密度过大：随着电流密度的增大，镀层中的锡含量提高，结晶细致而光亮，但当电流密度超过一定限度时，由于阴极附近严重缺乏金属离子，在阴极尖端和凸出地方会产生树枝状的金属镀层。
因电流密度过大引起的粗糙、毛刺多分布在镀件的不同部位，镀层含锡量增加，阴极区氢气泡增多，阳极板钝化发黑，大量析氧。 (5)二价锡含量过多：在四价锡盐的镀液中，总不可避免地存在一定含量的二价锡。
由于二价锡在阴极析出比四价锡要容易得多，当镀液中超过一定含量的二价锡时，因二价锡在阴极沉积太快而引起镀层粗糙、毛刺。 因二价锡容易在阴极放电，使镀层含锡量增高，镀层一般情况下微带灰色。
镀件无论电流大小部位都会出现粗糙、毛刺。合金阳极或锡阳极上呈灰白色，镀层硬度增高，抛光后砂痕遮盖不住。
(6)镀液浑浊：镀液由于机械杂质和其他悬浮物污染而浑浊，此时如进行电镀，这些细微颗粒状物体就会落在镀件上，夹杂在镀层里，而造成镀层粗糙、毛刺。 因镀液浑浊而造成的镀层粗糙、毛刺多在镀件向上的部位，但阳极不发生钝化。