采用化学法获得的铬层是无光和灰色的，需要借助抛光才能获得光亮性。可以在金属上沉积，也可以在化学镀镍上沉积，其配方与工艺如下：
氟化铬
17 g/L
氯化铬
1 g/L
柠檬酸钠
8.5 g/L
次亚磷酸钠
8.5g/L
冰醋酸
10ml/L
20％氢氧化纳
10ml/L
pH值
8～10
温度
71～90 ºC
析出速度
0.0025mm/h
化学镀铬的反应启动要借助原电池原理的接触启动电流，也就是在进行化学镀时，在装入了被镀产品后，要用另一种基体不同电位的金属与之接触，以触发化学反应，且另一种金属的电位要低于被镀金属。这一过程也叫接触镀（Contact process）。
配制化学镀铬必须用60ºC以上的热水来溶解氟化铬，再加到规定的液量并溶入氯化铬和柠檬酸钠等。最后加入次亚磷酸钠。用冰醋酸或氢氧化纳调pH值至8～10。反应中消耗最快的是次亚磷酸钠，要经常少量加入。
如果用接触法启动不了镀覆过程，则有可能是氯化铬过量，调整后先试镀。
能获得致密、均匀和导电率高的镀层，这在电子电镀中是极其可贵的。
降低浓差极化。提高阴极的电流密度，因而有可能提高镀速。
减少镀层的孔隙率，增强镀层的抗蚀性。
消除氢脆，改善镀层的物理性能。
降低镀层的内应力，提高镀层的韧性。
减少镀层中杂质含量，提高镀层的纯度。
免除或减少添加剂的需要。
